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更新日期:2024-03-23
簡要描述:
thermocera多氣氛晶圓退火爐minilab-WCF最高溫度 2000°C確保安全性和可操作性 僅晶圓退火 從超高溫多氣氛爐的新材料和材料的開發(fā),半導體和電子元件的研發(fā)等,可廣泛用于小規(guī)模生產(chǎn)應用。
品牌 | 其他品牌 | 燃料 | 電加熱鍋爐 |
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結構形式 | 立式 | 出口壓力 | 高壓 |
thermocera多氣氛晶圓退火爐minilab-WCF
多氣氛晶圓退火設備,可用于各種
工藝環(huán)境下的小規(guī)模生產(chǎn)
C/C復合加熱器 | 最高2000°C |
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碳化硅3涂層加熱器 | 最高1600°C |
TiC3涂層加熱器 | 最高2100°C |
C/C 復合材料、SiC3 涂層、TiC3 涂層加熱器最高溫度 2000°C確保
安全性和可操作性 僅晶圓退火 從超高溫多氣氛爐的新材料和材料的開發(fā),半導體和電子元件的研發(fā)等,可廣泛用于小規(guī)模生產(chǎn)應用。
三種類型的爐子加熱器/絕緣材料擴大了碳爐的應用范圍。
C/C復合加熱器
SiC3(碳化硅)涂層加熱器
TiC3(碳化鈦)涂層加熱器
最高工作溫度 2000°C
C/C復合加熱器
TiC3涂層加熱器
碳化硅3涂層加熱器
PLC 半自動操作(真空/吹掃→排氣)
通過觸摸屏 HMI 操作
*全自動操作也是可能的(面議)
爐膛加熱范圍
Φ4寸 ? φ8寸
單晶圓或多級盒(5張)批量類型
很多選擇
自動爐壓調節(jié)(APC控制)
用于測量爐中樣品溫度的附加熱電偶
額外的前視口+高溫計,用于爐子測量
坩堝旋轉
全自動控制
通信功能(使用溫度控制功能)或SECS/GEM通信
thermocera多氣氛晶圓退火爐minilab-WCF
C/C復合線材 | 碳化硅3涂層石墨絲 | TiC3涂層石墨絲 | |
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最高工作溫度 | 最高2000°C | 最高1600°C | 最高2100°C |
絕緣 | 石墨、氧化鋁、鎢、鉬、氧化鋯等(*因爐內結構而異) | ||
真空室 | SUS304水冷夾套結構,頂部加載,線性驅動可打開 | ||
使用氛圍 | 在真空或惰性氣體(Ar、N2)中 | 在真空中,惰性氣體(Ar,N2),還原氣體(H2等) | |
有效加熱范圍 | Φ4寸 ? φ8寸 | ||
極限真空度 | 1x10-2 帕斯卡(* 用于空爐) | ||
真空泵 | 干式渦旋泵(可選:渦輪分子泵) | ||
熱電偶 | C型熱電偶 | ||
聯(lián)鎖 | 腔室表面溫度、加熱器超溫、冷卻水滴、腔室開閉、真空度 | ||
公用設施和冷卻水 | 加熱器額定值最大 8KVA(* 取決于加熱范圍尺寸),冷卻水最大 8l/min 0.4Mpa |